一、引言

伴隨世界進(jìn)入數(shù)字時(shí)代，計(jì)算機(jī)、智能電子產(chǎn)品及互聯(lián)網(wǎng)絡(luò)日益成為生活和生產(chǎn)的中心，這使得人們對(duì)數(shù)字處理器和存儲(chǔ)器的性能要求不斷攀升，這就意味著電子元件的集成度越來越高。迄今為止，規(guī)模集成電路均采用光刻技術(shù)進(jìn)行加工，光刻的線寬極限和精度直接決定了集成電路的集成度、可靠性和成本。光刻膠在光刻工藝中的作用，就像膠片和攝影一樣，是構(gòu)筑圖形的不可或缺的關(guān)鍵材料。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，與光刻膠技術(shù)的更迭密不可分。20世紀(jì)70年代后期，光刻工藝分別使用365nm和313nm的近紫外（UV）和中紫外曝光光源。由于光源波長(zhǎng)與加工線寬呈線性關(guān)系，這意味著光源采用更短的波長(zhǎng)，例如低于248nm的深紫外光，將得到更小的圖案、在單位面積上實(shí)現(xiàn)更高的電子元件集成度，這使得芯片性能可以呈指數(shù)增長(zhǎng)，而成本卻同步大幅下降。20世紀(jì)80年代初，IBM公司的化學(xué)放大（CA）光刻膠技術(shù)使得曝光光源波長(zhǎng)縮短至193nm，為全球半導(dǎo)體制造業(yè)的指數(shù)增長(zhǎng)注入了重要?jiǎng)恿Α＝?0年來，化學(xué)放大光刻膠一直支撐著整個(gè)數(shù)字時(shí)代。

二、半導(dǎo)體制造材料——光刻膠市場(chǎng)分析

（一）光刻膠基本概況

光刻膠又名“光致抗蝕劑”，是一種在紫外光等光照或輻射下，溶解度會(huì)發(fā)生變化的薄膜材料。光刻膠是集成電路制造的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料之一，是光刻技術(shù)中涉及到最關(guān)鍵的功能性化學(xué)材料，廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及半導(dǎo)體分立器件的微細(xì)加工等過程。 在光刻圖案化工藝中，首先將光刻膠旋涂在硅片上形成一層薄膜。接著，在復(fù)雜的曝光裝置中，光線通過一個(gè)具有特定圖案的掩模投射到光刻膠上。曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化，在隨后的化學(xué)顯影過程中被去除。最后，掩模的圖案就被轉(zhuǎn)移到了光刻膠膜上。在隨后的蝕刻或離子注入工藝中，此光刻膠的圖案可被轉(zhuǎn)移到下層的薄膜上。這種薄膜圖案化的過程經(jīng)過多次迭代，聯(lián)同其他多個(gè)物理過程，便產(chǎn)生集成電路。

市場(chǎng)上，光刻膠產(chǎn)品依據(jù)不同標(biāo)準(zhǔn)，可以進(jìn)行分類。依照化學(xué)反應(yīng)和顯影原理分類，光刻膠可以分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠；按照感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)分類，光刻膠可以分為光聚合型光刻膠、光分解型光刻膠和光交聯(lián)型光刻膠；按照曝光波長(zhǎng)分類，光刻膠可分為紫外光刻膠（300-450nm）、深紫外光刻膠（160-280nm）、極紫外光刻膠（EUV，13.5nm）、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。  

圖表1  光刻膠分類

在不同下游應(yīng)用光刻膠中，以半導(dǎo)體光刻膠性能最強(qiáng)，技術(shù)壁壘最高。隨著半導(dǎo)體制程不斷提高，所需曝光所用光線波長(zhǎng)不斷縮短，對(duì)光刻膠的分辨率、敏感度、對(duì)比度等也提出了更高的要求。半導(dǎo)體用光刻膠所包含的g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠對(duì)應(yīng)曝光波長(zhǎng)分別為436nm、365nm、248nm和193nm，隨著曝光波長(zhǎng)不斷縮短，對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體制程也更加先進(jìn)。尤其是后續(xù)采用的沉浸式曝光極大縮短了ArF型光刻膠對(duì)應(yīng)制程，可低達(dá)22nm。

   （二）光刻膠市場(chǎng)規(guī)模分析

1.全球光刻膠市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀

由于半導(dǎo)體光刻膠主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造，故半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)與對(duì)應(yīng)晶圓廠產(chǎn)能密切相關(guān)。根據(jù)SEMI公布數(shù)據(jù)，2018年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)共17.3億美元，同比增長(zhǎng)2.3%。自2016年來，全球光刻膠市場(chǎng)年均復(fù)合增長(zhǎng)率為9.23%。

圖表2  全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模

根據(jù)前瞻研究院數(shù)據(jù)，半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域中，i/g型光刻膠占總市場(chǎng)的24%，為4.15億美元；KrF型光刻膠占總市場(chǎng)的22%，為3.81 億美元；ArF型光刻膠占總市場(chǎng)的41%，為7.09億美元。 

圖表3  不同光刻膠市場(chǎng)規(guī)模結(jié)構(gòu)

 

從半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)來看，目前全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)主要為美日公司所壟斷。i/g型光刻膠以東京應(yīng)化、美國(guó)陶氏和日本合成橡膠占比最高，分別占據(jù)25.9%，18.4%，15.1%的市場(chǎng)份額；KrF型光刻膠以東京應(yīng)化、信越化工和日本合成橡膠占比最高，分別占據(jù)34%，22%，18%的市場(chǎng)份額；ArF型光刻膠以日本合成橡膠、信越化工和東京應(yīng)化占比最高，分別占據(jù)24.3%，23.4%，20.3%的市場(chǎng)份額。

2.中國(guó)光刻膠市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀

半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)增長(zhǎng)主要得益于下游晶圓廠產(chǎn)能增長(zhǎng)，而半導(dǎo)體晶圓廠產(chǎn)能向中國(guó)轉(zhuǎn)移將極大程度利好國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)需求。根據(jù)IC Insight預(yù)測(cè)，至2020年中國(guó)硅晶圓產(chǎn)能將較2018年增長(zhǎng)40%，將拉動(dòng)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)需求大幅增長(zhǎng)。  

圖表4  中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模增速 
 

根據(jù)前瞻研究院數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，2017、2018年中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模增幅分別為10.3%，6.1%，2016-2018年市場(chǎng)增速CAGR達(dá)8.2%。但目前中國(guó)本土光刻膠產(chǎn)品，主要還集中在低端PCB光刻膠，PCB光刻膠市場(chǎng)份額高達(dá)94.4%。排名第二的LCD光刻膠市場(chǎng)份額僅為 2.7%，半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)份額僅為1.6%。中國(guó)光刻膠產(chǎn)品依然以低端產(chǎn)品為主，半導(dǎo)體光刻膠國(guó)產(chǎn)化率水平極低。  

  圖表5  中國(guó)大陸光刻膠市場(chǎng)份額占比

 

國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，國(guó)產(chǎn)化率方面，分產(chǎn)品來看，較低端的 i/g型光刻膠國(guó)產(chǎn)化率很低，目前國(guó)內(nèi)僅有晶瑞股份的蘇州瑞紅子公司和北京科華微電子公司可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，其中晶瑞股份擁有100噸/年的i線光刻膠生產(chǎn)線，科華微電子擁有500噸/年的i/g線光刻膠生產(chǎn)線，此外，容大感光公司也可小批量（低于 100 噸/年）生產(chǎn)i線光刻膠。

對(duì)于較高端的KrF、ArF型光刻膠，目前國(guó)內(nèi)基本依靠進(jìn)口。KrF 型光刻膠僅北京科華微電子擁有一條10噸/年生產(chǎn)線，產(chǎn)品現(xiàn)已通過中芯國(guó)際認(rèn)證獲得商業(yè)訂單，但所占市場(chǎng)份額極低，晶瑞股份于2018年建成了一條（KrF）248nm深紫外光刻膠中試示范線，尚未實(shí)現(xiàn)正式批量生產(chǎn)。ArF型光刻膠目前南大光電在建一條25噸/年的生產(chǎn)線，科華微電子和上海新陽(yáng)也在進(jìn)行產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目。

3.我國(guó)光刻膠相關(guān)政策

近年來，隨國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)持續(xù)發(fā)展，國(guó)家在集成電路的重要上游材料光刻膠領(lǐng)域也布局了一系列相關(guān)政策。預(yù)計(jì)隨著下游晶圓廠產(chǎn)能轉(zhuǎn)移推動(dòng)市場(chǎng)增長(zhǎng)，國(guó)內(nèi)企業(yè)突破技術(shù)壁壘實(shí)現(xiàn)對(duì)應(yīng)產(chǎn)品量產(chǎn)，以及國(guó)家政策傾斜扶植，我國(guó)光刻膠行業(yè)將迎來新一輪的增長(zhǎng)機(jī)遇。

圖表6  光刻膠領(lǐng)域相關(guān)政策

（三）光刻膠材料制備壁壘分析

1.技術(shù)壁壘

光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過程是將感光材料、樹脂、溶劑等主要原料在恒溫恒濕1000級(jí)的黃光區(qū)潔凈房進(jìn)行混合，在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下充分?jǐn)嚢瑁蛊涑浞只旌闲纬删嘁后w，經(jīng)過多次過濾，并通過中間過程控制和檢驗(yàn)，使其達(dá)到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求，最后做產(chǎn)品檢驗(yàn)，合格后在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下包裝、打標(biāo)、入庫(kù)。

光刻膠的技術(shù)壁壘包括配方技術(shù)，質(zhì)量控制技術(shù)和原材料技術(shù)。配方技術(shù)是光刻膠實(shí)現(xiàn)功能的核心，質(zhì)量控制技術(shù)能夠保證光刻膠性能的穩(wěn)定性而高品質(zhì)的原材料則是光刻膠性能的基礎(chǔ)。

配方技術(shù)：由于光刻膠的下游用戶是IC芯片和FPD面板制造商，不同的客戶會(huì)有不同的應(yīng)用需求，同一個(gè)客戶也有不同的光刻應(yīng)用需求。一般一塊半導(dǎo)體芯片在制造過程中需要進(jìn)行10-50道光刻過程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過程對(duì)光刻膠的具體要求也不一樣，即使類似的光刻過程，不同的廠商也會(huì)有不同的要求。針對(duì)以上不同的應(yīng)用需求，光刻膠的品種非常多，這些差異主要通過調(diào)整光刻膠的配方來實(shí)現(xiàn)。因此，通過調(diào)整光刻膠的配方，滿足差異化的應(yīng)用需求，是光刻膠制造商最核心的技術(shù)。

質(zhì)量控制技術(shù)：由于用戶對(duì)光刻膠的穩(wěn)定性、一致性要求高，包括不同批次間的一致性，通常希望對(duì)感光靈敏度、膜厚的一致性保持在較高水平，因此，光刻膠生產(chǎn)商不僅僅要配置齊全的測(cè)試儀器，還需要建立一套嚴(yán)格的QA體系以保證產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定。

原材料技術(shù)：光刻膠是一種經(jīng)過嚴(yán)格設(shè)計(jì)的復(fù)雜、精密的配方產(chǎn)品，由成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑等不同性質(zhì)的原料，通過不同的排列組合，經(jīng)過復(fù)雜、精密的加工工藝而制成。因此，光刻膠原材料的品質(zhì)對(duì)光刻膠的質(zhì)量起著關(guān)鍵作用。

2.客戶認(rèn)證壁壘

包括光刻膠在內(nèi)的微電子化學(xué)品有技術(shù)要求高、功能性強(qiáng)、產(chǎn)品更新快等特點(diǎn)，其產(chǎn)品品質(zhì)對(duì)下游電子產(chǎn)品的質(zhì)量和效率有非常大的影響。因此，下游企業(yè)對(duì)微電子化學(xué)品供應(yīng)商的質(zhì)量和供貨能力十分重視，常采用認(rèn)證采購(gòu)的模式，需要通過送樣檢驗(yàn)、技術(shù)研討、信息回饋、技術(shù)改進(jìn)、小批試做、大批量供貨、售后服務(wù)評(píng)價(jià)等嚴(yán)格的篩選流程。

3.規(guī)模和資金壁壘

通常光刻膠等微電子化學(xué)品不僅品質(zhì)要求高，而且需要多種不同的品類滿足下游客戶多樣化的需。如果沒有規(guī)模效益，供應(yīng)商就無法承擔(dān)滿足高品質(zhì)多樣化需求帶來的開銷。因此，品種規(guī)模構(gòu)成了進(jìn)入該行業(yè)的重要壁壘。同時(shí)，一般微電子化學(xué)品具有一定的腐蝕性，對(duì)生產(chǎn)設(shè)備有較高的要求，且生產(chǎn)環(huán)境需要進(jìn)行無塵或微塵處理。制備高端微電子化學(xué)品還需要全封閉、自動(dòng)化的工藝流程，以避免污染，提高質(zhì)量。因此，光刻膠等微電子化學(xué)品生產(chǎn)在安全生產(chǎn)、環(huán)保設(shè)備、生產(chǎn)工藝系統(tǒng)、過程控制體系以及研發(fā)投資等方面要求較高。如果沒有強(qiáng)大的資金實(shí)力，企業(yè)就難以在設(shè)備、研發(fā)和技術(shù)服務(wù)上取得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，以提升可持續(xù)發(fā)展能力。因此，光刻膠這樣的微電子化學(xué)品行業(yè)具備較高的資金壁壘。

（四）我國(guó)光刻膠領(lǐng)域代表企業(yè)分析

1.飛凱材料

飛凱材料公司是一家研究、生產(chǎn)、銷售高科技制造中使用的材料和特種化學(xué)品的專業(yè)公司，率先打破國(guó)外巨頭對(duì)紫外固化光纖光纜涂覆材料的技術(shù)壟斷，搶占市場(chǎng)先機(jī)，逐步樹立了公司在紫外固化光纖光纜涂覆材料行業(yè)的領(lǐng)先地位。協(xié)同效應(yīng)初步顯現(xiàn)，配套材料綜合平臺(tái)雛形初現(xiàn)。

2018年，公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入14.46億元，同比增長(zhǎng)76.23%，實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)2.84億元，同比增長(zhǎng)239.37%。其中電子化學(xué)品占公司總營(yíng)收的64.9%，是公司最主要的收入來源。  

圖表7  飛凱材料營(yíng)業(yè)收入（百萬(wàn)元）

 

圖表8  2018年飛凱材料公司產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

 

2.南大光電

公司主營(yíng)業(yè)務(wù)包括MO源產(chǎn)品業(yè)務(wù)、高純特種電子特氣業(yè)務(wù)、光刻膠及配套產(chǎn)品業(yè)務(wù)、ALD前驅(qū)體產(chǎn)品業(yè)務(wù)等。公司產(chǎn)品主要用于下游LED、集成電路芯片、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域；公司在MO源產(chǎn)業(yè)中屬于全球主要的MO源生產(chǎn)商，技術(shù)達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。

光刻膠及配套業(yè)務(wù)方面，公司193nm光刻膠及配套材料啟動(dòng)項(xiàng)目獲得國(guó)家02專項(xiàng)正式立項(xiàng)，得到中央財(cái)政補(bǔ)貼1,816.65萬(wàn)元。公司組建了專職的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，建成1500平方米研發(fā)中心和百升級(jí)光刻膠中試生產(chǎn)線，產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)展和成果得到業(yè)界專家的認(rèn)可。公司具備了研制功能單體、功能樹脂、光敏劑等光刻膠材料的能力，已經(jīng)開發(fā)的多款先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品在客戶端的評(píng)估中獲得好評(píng)。

目前，“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”獲得國(guó)家02專項(xiàng)的正式立項(xiàng)，獲得中央財(cái)政撥款13,285.00萬(wàn)元，地方配套也在審批中。公司新設(shè)了光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進(jìn)“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”的落地實(shí)施，項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。

3.晶瑞股份

晶瑞股份專業(yè)從事微電子化學(xué)品的產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。其四大類微電子化學(xué)品（超凈高純?cè)噭?、光刻膠、功能性材料和鋰電池粘結(jié)劑）均為下游五大新興行業(yè)（半導(dǎo)體、光伏太陽(yáng)能電池、LED、平板顯示和鋰電池）的關(guān)鍵材料。經(jīng)過多年研發(fā)和積累，晶瑞股份部分超凈高純?cè)噭┻_(dá)到國(guó)際最高純度等級(jí)（G5），打破了國(guó)外技術(shù)壟斷，制定了多項(xiàng)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)；在國(guó)內(nèi)率先實(shí)現(xiàn)目前集成電路芯片制造領(lǐng)域大量使用的核心光刻膠的量產(chǎn)，可以實(shí)現(xiàn)0.35μm的分辨率，在業(yè)內(nèi)建立了較高技術(shù)聲譽(yù)。

公司形成了我國(guó)先進(jìn)的光刻膠生產(chǎn)和研發(fā)示范基地：（1）研發(fā)的i線正膠完成了產(chǎn)品定型，各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)和工藝性能滿足0.35-0.25μm集成電路技術(shù)和生產(chǎn)工藝要求，建成了100噸/年規(guī)模的i線正膠產(chǎn)品生產(chǎn)線，并已向客戶供貨；（2）研發(fā)的厚膜膠完成了產(chǎn)品定型，一次性涂膜厚度達(dá)到2-20μm，技術(shù)指標(biāo)符合硅片級(jí)封裝及相關(guān)產(chǎn)業(yè)的工藝要求，建成了20噸/年規(guī)模的厚膜膠生產(chǎn)線，并已向客戶供貨；（3）完成了248nm深紫外光刻膠成膜樹脂和配膠的中試技術(shù)研究，研發(fā)的248nm深紫外光刻膠分辨率達(dá)到了0.25-0.13μm的技術(shù)要求，建成了中試示范線。

2013年5月16日，蘇州瑞紅與江南大學(xué)簽訂《技術(shù)開發(fā)合同》，合作研究02專項(xiàng)中i-line 光刻膠專用成膜樹脂。2016年5月，蘇州瑞紅和江南大學(xué)化學(xué)與材料工程學(xué)院達(dá)成協(xié)議，作光刻膠重要原料光致酸劑也納入聯(lián)合研究范圍；研究成果的權(quán)屬屬于江南大學(xué)所有，蘇州瑞紅優(yōu)先享有使用權(quán)。該合作研究有利于打破目前該部分產(chǎn)品基本依賴進(jìn)口的局面，建設(shè)完善的超大規(guī)模集成電路專用化學(xué)品產(chǎn)業(yè)鏈。

圖表9  晶瑞股份2014-2016年光刻膠銷量、單價(jià)情況

圖表10  晶瑞股份光刻膠分類

圖表11  晶瑞股份營(yíng)收情況

 

圖表12  公司主營(yíng)業(yè)務(wù)構(gòu)成

 

從上述公司業(yè)務(wù)布局來看，在光刻膠領(lǐng)域，國(guó)內(nèi)各龍頭企業(yè)已經(jīng)看到行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)，紛紛開展半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目，但國(guó)內(nèi)企業(yè)攻克光刻膠技術(shù)壁壘并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)來說，還是需要一定的時(shí)間。

三、本地發(fā)展現(xiàn)狀

目前，寧夏地區(qū)暫無公司開展光刻膠項(xiàng)目，分析其原因不難發(fā)現(xiàn)，由于生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠對(duì)于生產(chǎn)技術(shù)、客戶認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)、資金及產(chǎn)業(yè)規(guī)模都有很高的要求，而寧夏地區(qū)受制于資源、技術(shù)、資金、人才、供應(yīng)鏈需求等因素以及相應(yīng)的配套設(shè)施不齊全，因此，暫時(shí)沒有半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域企業(yè)布局。在未來，依托本地區(qū)新材料產(chǎn)業(yè)布局，尤其是銀川市經(jīng)開區(qū)高新產(chǎn)業(yè)集群戰(zhàn)略規(guī)劃，加之半導(dǎo)體市場(chǎng)對(duì)光刻膠材料的需求，政府也將會(huì)加大招商引資力度，吸引相關(guān)企業(yè)落戶寧夏，提升寧夏地區(qū)新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展地位。

四、結(jié)語(yǔ)

半導(dǎo)體光刻膠代表了光刻膠發(fā)展的最高水平，光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的35%。由于國(guó)內(nèi)光刻膠起步晚，目前技術(shù)水平相對(duì)落后，生產(chǎn)產(chǎn)能主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品，TFT-LCD、半導(dǎo)體光刻膠等高技術(shù)壁壘產(chǎn)品產(chǎn)能較少，國(guó)內(nèi)高端光刻膠目前主要依賴進(jìn)口。當(dāng)前，中國(guó)通過國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金（大基金）撬動(dòng)全社會(huì)資源對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)行投資和扶持。同時(shí)，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)積極抓住中國(guó)晶圓制造擴(kuò)產(chǎn)的百年機(jī)遇，布局和發(fā)展光刻膠業(yè)務(wù)，高端光刻膠國(guó)產(chǎn)化替代空間巨大，發(fā)展?jié)摿Σ豢上蘖俊?/span> 目前，高端光刻膠占據(jù)較大的需求市場(chǎng)份額，并且高端光刻膠產(chǎn)品附加值更高，只有實(shí)現(xiàn)高端光刻膠才能占據(jù)產(chǎn)業(yè)鏈頂端，充分享受行業(yè)利潤(rùn)，因此，對(duì)于我國(guó)半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)的未來發(fā)展，應(yīng)從以下幾方面著力：一是加大政策支持力度。從信貸、稅收、土地等多個(gè)方面對(duì)光刻膠企業(yè)的發(fā)展進(jìn)行大力扶持；二是重視光刻膠材料技術(shù)開發(fā)及產(chǎn)能布局，建立完善供應(yīng)鏈。半導(dǎo)體光刻膠制備技術(shù)在生產(chǎn)配方、感光靈敏度、材料精密加工等過程有很高的穩(wěn)定性和一致性的要求，國(guó)內(nèi)光刻膠生產(chǎn)企業(yè)要突破技術(shù)壁壘，提升國(guó)內(nèi)企業(yè)技術(shù)研發(fā)水平。同時(shí)，要強(qiáng)化整條產(chǎn)業(yè)鏈的深度融合，擺脫核心環(huán)節(jié)受控于人的局面，確保光刻膠產(chǎn)業(yè)未來的自主可控發(fā)展；三是加大產(chǎn)業(yè)人才培養(yǎng)等創(chuàng)新資源的投入。要持續(xù)引進(jìn)和培養(yǎng)行業(yè)技術(shù)和管理人才，為產(chǎn)業(yè)未來良性發(fā)展儲(chǔ)存動(dòng)能，從人員、材料、物力等多個(gè)角度對(duì)半導(dǎo)體光刻膠材料的基礎(chǔ)研發(fā)工作進(jìn)行重點(diǎn)支持；四是建立產(chǎn)學(xué)研聯(lián)盟。企業(yè)與高校、研究機(jī)構(gòu)合作，以促進(jìn)項(xiàng)目的開發(fā)、人才的培養(yǎng)、標(biāo)準(zhǔn)的建立，構(gòu)建產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)開發(fā)平臺(tái)、促進(jìn)國(guó)際合作交流。